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機臺前端凈化設(shè)備
用于Foup/Pod的凈化，是減少生產(chǎn)工序之間，晶圓交叉污染和氧化的有效解決方案。
彌費FPS和TLP的組合，可以最大限度地提高半導(dǎo)體晶圓廠的工藝良率和成本效益。彌費FPS可以大氣流快速凈化，安裝在EFEM內(nèi)部的風(fēng)刀可以保持Foup/Pod內(nèi)部濕度低、顆粒少。
彌費FPS和TLP的組合，可以最大限度地提高半導(dǎo)體晶圓廠的工藝良率和成本效益。彌費FPS可以大氣流快速凈化，安裝在EFEM內(nèi)部的風(fēng)刀可以保持Foup/Pod內(nèi)部濕度低、顆粒少。
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